多孔SiC薄膜的制备及孔径调控开题报告

1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）

文 献 综 述一．题目：多孔sic薄膜的制备及孔径调控二．课题的目的与意义：近年来，随着电子化、信息化的快速发展，作为信息传播重要载体的电磁波已经深入到民用及军事的各个方面，应用广泛，给我们的生活带来了很多便利，也促进了各国军事的发展，但是随着雷达探测系统、精确制导技术的迅猛发展与应用，大型航空飞行器或装备系统在使用时将面临极大的威胁。

吸波材料是一种可以有效损耗掉入射到其表面的电磁波的材料。

在国防军事领域，通常将吸波性能良好的材料以涂层形态用于武器装备表面，以减弱目标向外界发散的雷达特征与红外线等，使敌军难以检测到目标，这对提高目标的生存和防御能力具有重要意义。

2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案

一、研究内容：（1）全面了解cvd工艺的概况，包括其基本概念、原理、工艺参数对制备材料微观形貌的影响，重点是cvd sic涂层和pyc涂层的研究进展（2）掌握基本实验设备(cvd管式炉、马弗炉、分析天平等)的操作方法；（3）掌握cvd共沉积过程、多孔碳化硅薄膜材料的制备方法；（4）熟悉利用xrd、sem及tem对等对样品进行物相、显微结构分析的方法。

二、研究内容：本课题内容主要为多孔sic薄膜的制备及孔径调控。

通过化学气相沉积工艺（cvd），采用sic-c共沉积的方法，实现可调比例的sic-c共沉积涂层的制备和设计，通过氧化工艺去除c组元从而形成具有特定孔径结构的多孔sic薄膜。